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gan快速退火爐,gan快速退火爐的配置和特點有哪些?

作者:admin 瀏覽量:493 來源:本站 時間:2022-09-17 13:41:08

信息摘要:

GaN快速退火爐使用方便,易于操作,加熱元件采用紅外燈管,加熱速度快,節省時間?;瑒臃ㄌm簡化了樣品的裝卸過程,操作方便,可快速獲得實驗結果,省去了重復的法蘭安裝過程,減少了爐管安裝造成的損壞。那么你知道它該有怎樣的配置和特點嗎?GaN快速退火爐適用于CVD工藝,例如碳化硅涂層,陶瓷基板電導率測試,ZnO

  GaN快速退火爐使用方便,易于操作,加熱元件采用紅外燈管,加熱速度快,節省時間?;瑒臃ㄌm簡化了樣品的裝卸過程,操作方便,可快速獲得實驗結果,省去了重復的法蘭安裝過程,減少了爐管安裝造成的損壞。那么你知道它該有怎樣的配置和特點嗎?
  GaN快速退火爐適用于CVD工藝,例如碳化硅涂層,陶瓷基板電導率測試,ZnO納米結構的受控生長,陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結和其他實驗。此CVD系統配置:1200度開放式真空管式爐(可選單溫度區,雙溫度區)。多通道質量流量控制系統,真空系統(可以選擇中真空或高真空)。
 

GaAs/GaN用快速退火爐

  1、控制電路采用模糊PID程序控制技術,具有溫度控制精度高,熱慣性低,溫度超調,性能可靠,操作簡單的特點。
  2、氣路快速連接法蘭結構采用公司*的知識產權設計,提高了操作的便利性。
  3、中真空系統具有自動控制真空度上限和下限的功能,高真空系統使用高壓耐沖擊分子泵。
  GaN快速退火爐易于操作,加熱元件采用紅外燈管,加熱速度快,節省時間?;瑒臃ㄌm簡化了樣品的裝卸過程,操作方便。實驗結果可以很快獲得,并且省去了重復的方法,藍色的安裝過程減少了由于安裝引起的爐管損壞。


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